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花键管液态硼渗[工艺代号535-03(B)]工艺守则(1)工艺特点，20#精密异型管液态硼渗的渗硼剂由供硼剂、还原剂、活化剂等组成。一般可分为以内两类：1)用硼砂(包括硼酐、硼酸)作供硼剂，另加少量碳化硅、硅钙铁、硅铁、锰铁、铝、硅、镁等作还原剂(熔盐-熔盐)。二是用B4C作供硼剂，用硼砂、氯化物作还原剂(盐卤)。 渗硼盐浴比卤化盐浴稳定，且能溶解金属氧化物，使花键精密异形无缝管表面清洁，有利于渗入元素的吸附扩散。且渗层比较致密(无严重的孔洞和疏松)，盐浴无污染，因而应用广泛。但是，其缺点是盐浴粘度大，流动性比卤浴差，花键精密异形无缝管损耗大，附着在花键精密异形无缝管表面的盐难于清除。液态渗硼因其原料经济，供应充足，设备简单，操作方便，可直接淬火，适合于批量生产，是目前广泛采用的渗硼工艺之一。



花键管完全奥氏体化正火反应。在850~900℃(Ac1上限+(50~60)℃)，在一定的正火温度范围内，加热温度越高，奥氏体中的碳含量越多，合金元素越多，正火后珠光体越多，因而硬度也越高，因此，当需要正火后铸铁强度、硬度较高时，可选择加热温度上限。 一般情况下，在自然空气中(或风吹)冷却1~3小时后加热。异形花键精密无缝管成形复杂或较重要，正火处理后应重新进行内应力消除退火。若异形花键精密无缝管原始组织中有过多的自由渗碳体，则必须加热到Ac1上限+(50~100)℃(约900~960℃)，高温石墨化以消除自由渗碳体，然后再进行细牙花键精密光亮无缝管正常完全奥氏体化正火。

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